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  • TFS 500 --Atomic Layer Deposition (ALD)
  • 產品廠牌: Beneq
    產品簡述: 奈米尺度下無孔洞製程以及 表面鈍化效果的原子層沉積系統

    原廠國家: 芬蘭
    製程應用:
      ALD作為一個薄膜塗層方法,其提供:
    ‧在真正的奈米級尺度下,精確控制薄膜的厚度。

    ‧無孔洞的製程,例如,卓越的障礙和表面鈍化效果。

    ‧在批次中維持鍍膜的一致的均勻度,大面積的基板和複
        雜的
    3D物體,包括多孔大宗物資,以及粉末。

    ‧設計和新的功能材料和結構,如奈米層壓。

    ‧一個高度可重複的和可擴展性的製程。
    相關連結:  http://www.beneq.com/
    關鍵字   :   高介電系數, Batch ALD, 批次式系統,ALDM,原子層沉積

製程說明
1.批次式的腔體,具量產可行性的研究型原子層沉積系統,可提供業界作為RD和量產的平
   台.                                                                      
2.可配備電漿源和晶圓承載系統                  
3.提供多元的金屬先驅物選擇                    
4. CIGS, 面板 (OLED), c-Si
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