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  • TFS 500 --Atomic Layer Deposition (ALD)
  • 產品廠牌: Beneq
    產品簡述: 芬兰

    原厂国家: 芬兰
    制程应用:
      ALD作为一个薄膜涂层方法,其提供:
    在真正的奈米级尺度下,精确控制薄膜的厚度。

    无孔洞的制程,例如,卓越的障碍和表面钝化效果。

    在批次中维持镀膜的一致的均匀度,大面积的基板和复
        杂的3D物体,包括多孔大宗物资,以及粉末。

    设计和新的功能材料和结构,如奈米层压。

    一个高度可重复的和可扩展性的制程。
    相关连结:  http://www.beneq.com/
    关键字    :  高介电系数, Batch ALD, 批次式系统,ALD,原子层沉积

製程說明
1.批次式的腔体,具量产可行性的研究型原子层沉积系统,可提供 业界作为RD和量产的平台.
2.可配备电浆源和晶圆承载系统                  
3.提供多元的金属先驱物选择                    
4. CIGS, 面板 (OLED), c-Si