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  • TFS 200
  • 產品廠牌: Beneq
    產品簡述: 晶圓、玻璃、金屬或或塑膠板、3D物件 以及多孔性材料的原子層沉積系統

    原廠國家:  芬蘭
    製程應用:
      矽晶太陽能-表面鈍化
    相關連結:   http://www.beneq.com/
    關鍵字    :   高介電係數, Batch ALD, 批次式系統,ALD,原子層沉積

製程說明
1.彈性的研究平臺並具備高度的模組化設計
2.可配備電容耦合式電漿系統: capacitively-coupled plasma(CCP)
3.制程所需的每個迴圈(cycle)時間可控制在兩秒以下
4.提供多元的金屬先驅物選擇,腔體溫度最高可至500C
5.可提供晶圓乘載系統
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