原厂国家: 德国 制程应用: 1. 优异的高密度等离子体 2. 平面ICP等离子体源沉积层 3. 杰出性能的沉积层 4. 动态温度控制 相关连结: http://www.sentech.de/ 关键字 : 电浆化学气相沉积
优良的性能表现在硅烷沉积工艺为基础的在硅和III-V族半导体技术。