原厂国家: 德国 制程应用: 包含但不局限于 III-V compound semiconductors (GaAs, InP, GaN, InSb), dielectrics, quartz, glass, silicon, silicon compounds (SiC, SiGe), and metals. 相关连结: http://www.sentech.de/ 关键字 : 蚀刻
1. 对奈米结构的低伤害 2.高蚀刻率 3.独特的 ICP 电浆源 4.动态的温度控制