原廠國家: 德國 製程應用: 1. 優異的高密度等離子體 2. 平面ICP等離子體源沉積層 3. 傑出性能的沉積層 4. 動態溫度控制 相關連結: http://www.sentech.de/ 關鍵字 : 電漿化學氣相沉積
優良的性能表現在矽烷沉積工藝為基礎的在矽和III-V族半導體技術。