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  • P800
  • 產品廠牌: Beneq
    產品簡述: 晶圆、玻璃、金属或或塑料板、3D对象以及多孔性材料的原子层沉积系统
    原厂国家:  芬蘭
    制程應用:
      适合基板材料为晶圆、玻璃、金属或或塑料
                        板、3D物件以及多孔性材料的镀膜制程。
    相關連結:  http://www.beneq.com/
    关键字    : 高介电系数,Batch ALD,批次式系统:ALD,原子层沉积

製程說明
1. 批次式的腔体,优化的镀料源控制可避免镀料的浪费
2. 制程温度范围可从25~550℃
3. 可多元控制镀料来源
4. 制程过程中,镀料的不活化功能可保证系统与成长中的薄膜不受化学污染
5. 较低的设备保养成本