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  • P800
  • 產品廠牌: Beneq
    產品簡述: 晶圓、玻璃、金屬或或塑膠板、3D物件以及多孔性材料的原子層沉積系統

    原廠國家:   芬蘭
    製程應用:
       適合基板材料為晶圓、玻璃、金屬或或塑膠
                         板、3D物件以及多孔性材料的鍍膜製程。
    相關連結:  
    http://www.beneq.com/
    關鍵字   :  高介電系數,Batch ALD,批次式系統:ALD,原子層沉積


製程說明
1. 批次式的腔體,最佳化的鍍料源控制可避免鍍料的浪費
2. 製程溫度範圍可從25~550℃
3. 可多元控制鍍料來源
4. 製程過程中,鍍料的不活化功能可保證系統與成長中的薄膜不受化學汙染
5. 較低的設備保養成本