原厂国家: 韩国 制程应用: 薄膜去除、颗粒清洁、消除硅片应力、硅片再生 相关连结: http://www.apet.co.kr
1. 马兰戈尼干燥专利 2. 针对薄片大翘曲度晶圆(70um) 3. 无水迹残留 4. 低的破片率(利用水面表面张力干燥步骤) 5. 对金属层无影响 6. 25或50片同时作业,高速的产出 7. 自制整机软件替换原厂软件系统(DNS\TEL\Kaijo...)