SENresearch 4.0 SENresearch4.0是SENTECH最新的光譜橢偏儀產品。可依據各別客戶需求制定光譜範圍,亦可於日後現場升級配件..
SI ALD LL SENTECH原子層沉積系統,使熱和等離子增強的操作,其可為氧化物,氮化物,和金屬沉積進行配置。
SI 500 D 優良的性能表現在矽烷沉積工藝為基礎的在矽和III-V族半導體技術。
Etchlab 200 Etchlab200可以適用各種的蝕刻工藝,如矽,二氧化矽,金屬,III-V化合物,和聚合物
RM 1000 / 2000 SENTECH ' Reflectometer RM能夠在UV-VIS-NIR光譜範圍對單層膜、多層膜和基底材料進行高精度反射光譜測量。..
SE400 1.Ellipsometer (橢圓儀)及Reflectometer (反射儀)為非破壞性檢測之儀器 2.量測各種光學材料薄膜的厚度以..
SE800 1.全光譜式橢圓儀 2.在基板上可做快速及高靈敏的橢圓參數分析 3.具有高穩定度延相器以利分析 4.步階掃瞄..
SI 500 1. 對奈米結構的低傷害 2.高蝕刻率 3.獨特的 ICP 電漿源 4.動態的溫度控制