SENresearch 4.0 SENresearch4.0是SENTECH最新的光譜橢偏儀產品。可依據各別客戶需求制定光譜範圍,亦可於日後現場升級配件..
SIPAR 1.較低的價格,更高的產出量和更小的空間 2.ALD層與PECVD薄膜在同一反應腔產出混和型多層且均勻一致的薄膜..
SI ALD LL SENTECH原子層沉積系統,使熱和等離子增強的操作,其可為氧化物,氮化物,和金屬沉積進行配置。
SI 500 D 優良的性能表現在矽烷沉積工藝為基礎的在矽和III-V族半導體技術。
Etchlab 200 Etchlab200可以適用各種的蝕刻工藝,如矽,二氧化矽,金屬,III-V化合物,和聚合物
SI 500 1. 對奈米結構的低傷害 2.高蝕刻率 3.獨特的 ICP 電漿源 4.動態的溫度控制
SI 500 PPD 1.在製程溫度與薄膜沉積選擇上高度彈性的 電漿輔助化學氣相沉積系統 2.真空的晶圓承載腔體(loadlock) 3...